技術(shù)特征

◆采用DMD作為數(shù)字化可變掩模，實(shí)現(xiàn)投影式無掩模數(shù)字化光刻；

◆采用積木錯位蠅眼透鏡平滑衍射效應(yīng)，實(shí)現(xiàn)平行均勻照明；

◆采用反射式投影技術(shù)，實(shí)現(xiàn)DMD對圖像灰度、曝光劑量的連續(xù)可控；

◆采用CCD檢焦系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)整場調(diào)平、自動逐場調(diào)焦或自動選場曝光；

◆采用計算機(jī)分級控制和光柵精密測量技術(shù)，實(shí)現(xiàn)工件臺精密定位。

主要技術(shù)指標(biāo)

● 曝光分辯力：1μm；

● 最大曝光基片：100 mm×100mm；

● 照明均勻性：±1%；

● X、Y、Z、θ四自由度電動位移臺；

● X、Y運(yùn)動定位精度：0.65μm；

● Z向運(yùn)動精度：1μm；

● 轉(zhuǎn)動臺行程：±6°以上。

單位名稱：中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所

單位地址：四川成都雙流西航港光電大道1號

單位網(wǎng)址:www.ioe.ac.cn

聯(lián)系人： 胡松、趙立新　　　　 電話/傳真：028-85100564