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              納米壓印光刻機

                 2016-03-10 科技網整理
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              核心提示:技術特征:●大面積一次壓?。弧褡詣用撃?;●由PLC控制工藝過程,可實現自主定制;●可與接近接觸式光刻機

              技術特征:

              ●大面積一次壓?。?/P>

              ●自動脫模;

              ●由PLC控制工藝過程,可實現自主定制;

              ●可與接近接觸式光刻機兼容;

              ●友好的人機交互,觸模屏操作。
               

              主要技術指標:

              ● 分辯力: ≤ 15nm;

              ● 大功率紫外固化UV LED;

              ● 樣片尺寸:4 英寸(可定制);

              ● 壓印面積:2英寸(可定制);

              ● 模板尺寸:5 x 0.090英寸(可定制);

              ● 壓印壓力:0 - 25 PSI (可升級到100 PSI);

              ● 產量:< 5 分鐘/片;

              ● 使用方便:Step-by-step Menu;

              ● 應用領域廣泛。
               

                 單位名稱:中國科學院光電技術研究所

                 單位地址:四川成都雙流西航港光電大道1號

                 單位網址:www.ioe.ac.cn

                 聯系人: 胡松、趙立新     電話/傳真:028-85100564

                 移動電話:13981738959      電子信箱:husong@ioe.ac.cn   免責聲明:科技網發(fā)布的科技成果相關信息系根據科技成果信息提供方提供的信息內容進行發(fā)布。 科技網作為信息收集、發(fā)布平臺,僅對科技成果相關信息內容進行發(fā)布,不對所發(fā)布科技成果的相關信息的真實性、完整性、準確性和合法性負責,不保證所發(fā)布科技成果的名稱、圖片、描述與科技成果的實際相符,也不對科技成果做任何擔保和承諾。
               
               
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